Intel anuncia su herramienta NXE:5000 High NA EUV

Hoy, Intel reveló algunos detalles sobre su nueva herramienta de litografía High NA EUV. Si bien no se dijo nada innovador, SemiAccurate encontró algunos detalles fascinantes. Técnicamente la nueva máquina se llama NXE:5000 y reemplaza a la NA NXE:3600 normal que a su vez reemplaza a la también normal NA NXE:3400. Aunque todos estos instrumentos usan luz de 13,5 nm, la NA va de 33 en adelante de dos a 0,55. en el 5000. Mejor aún, la velocidad real de la oblea aumenta hasta un valor declarado (advertencia: esto fue de la memoria del presentador y nos olvidamos de verificar el número) 185 WPH. Si ha seguido el desarrollo de EUV, probablemente comprenderá cuán grande es el número en comparación con el punto donde comenzamos. Puedes ver hacia dónde vamos. Como puedes ver, el NXE:5000 es una herramienta seria. Lo que no puedes ver es que la mayor parte está debajo del piso, este es un dispositivo grande. Dado que generalmente no se da luz verde a cortar agujeros del tamaño de un vagón de carga en pisos fabulosos, se puede ver por qué básicamente hay que diseñar una fábrica alrededor de la herramienta, no colocarla en su lugar una vez que el techo esté puesto. Esta no es una tarea fácil. Esta es la versión «ligera», un poco más grande que los instrumentos móviles Alta NA. Por lo tanto, la herramienta ya está operativa y se está actualizando. Si bien Intel aún no ha obtenido resultados iniciales de la herramienta, se está acercando. Ya está montado y se está calibrando, lo que no es una tarea fácil ni rápida. Afortunadamente, ASML hizo algo muy inteligente y reutilizó muchos de los módulos de la línea 3600 anterior en la 5000, por lo que el trabajo es mucho más fácil. En lugar de tener que actualizar cosas como el módulo de oblea y la red, Intel puede centrarse, juego de palabras, en los nuevos bits. Una vez que todo esto esté en su lugar, Intel tendrá la capacidad de dibujar líneas un 67% más delgadas que NXE:3400. Una diapositiva indica que se pueden obtener líneas de ~20 nm con herramientas más antiguas, pero no está claro si se trata del 3400 o el 3600. El gráfico que se muestra para el 5000 tiene las líneas a unos 15 nm aproximadamente. Aún más interesante, durante el informe se mencionó que el NXE:5000 podría modelar patrones con luz direccional. Si Intel alguna vez habla de lo que está haciendo aquí, podría ser realmente esclarecedor. Sí, otro juego de palabras ahí. Si todo va según lo planeado, estas herramientas harán su debut en el año 2025 en el proceso 14a. Intel ha dicho que un nuevo «nodo» requiere un aumento de rendimiento del 15% o más, por lo que tienes una cifra aproximada para basar en qué estará 14a. Intel dice que esto le dará liderazgo en el proceso, pero bueno, TSMC tampoco se queda quieto. Inicio del juego. Lo último que salió de la nada fue cuando el anfitrión dijo las palabras mágicas que todos estábamos esperando. Dijo que Intel planea apilar los transistores. Realmente. No hay detalles sobre cuándo ni en qué medida, pero ya está oficialmente en la hoja de ruta. Extraoficialmente al menos. Ahí lo tiene, el debut de una herramienta High NA EUV para el cliente. A medida que sus capacidades se reducen, ASML puede rastrear líneas de 10 nm con una versión de búsqueda de rutas en sus propios laboratorios, por lo que la dirección futura es cada vez más clara. El NXE:5000 debería permitir a Intel crear un proceso 14a más económico con mayores rendimientos, lo mejor en teoría de ambos mundos. Estén atentos.S|A Las siguientes dos pestañas cambian el contenido a continuación. Charlie Demerjian es el fundador de Stone Arch Networking Services y SemiAccurate.com. SemiAccurate.com es un sitio de noticias sobre tecnología; que aborda el diseño de hardware, selección de software, personalización, seguridad y mantenimiento, con más de un millón de visitas por mes. Es tecnólogo y analista especializado en semiconductores, arquitectura de sistemas y redes. Como redactor jefe de SemiAccurate.com, asesora periódicamente a redactores, analistas y ejecutivos de la industria sobre cuestiones técnicas y tendencias de la industria a largo plazo. Charlie también está disponible a través de Guidepoint y Mosaic. Completamente preciso

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