Rendimiento y rendimientos del proceso de 2 nm en camino, la producción en masa comenzará en 2025

Rendimiento y rendimientos del proceso de 2 nm en camino, la producción en masa comenzará en 2025

Además de revelar su hoja de ruta y sus planes con respecto a sus tecnologías de proceso de vanguardia actuales, TSMC también compartió el progreso de su nodo N2 como parte de sus Simposios de 2024, el primer nodo de fabricación de clase de 2 nm de la compañía y que presenta predominantemente transistores de puerta completa. , el N2 casi ha alcanzado sus objetivos de rendimiento y rendimiento, según TSMC, lo que lo encamina a ingresar a una producción de gran volumen en la segunda mitad de 2025. TSMC dice que «el desarrollo del N2 está en marcha y el N2P es el siguiente». En particular, los dispositivos de nanohojas universales alcanzan actualmente más del 90% de su rendimiento previsto, mientras que el rendimiento de los dispositivos SRAM de 256Mb (32MB) ya supera el 80%, dependiendo del lote. Todo esto para un nodo a más de un año de la producción en masa. Mientras tanto, el rendimiento promedio de 256 Mb de SRAM fue de alrededor del 70 % en marzo de 2024, en comparación con alrededor del 35 % en abril de 2023. El rendimiento del dispositivo también mejoró a medida que se lograron frecuencias más altas mientras que el consumo de energía se mantuvo bajo control energético. El interés de los diseñadores de chips en la primera tecnología de transistores de nanohojas de clase 2 nm de TSMC también es significativo. El número de nuevas grabaciones (NTO) en el primer año de N2 es más del doble que el de N5. Sin embargo, dicho esto, dada la estrecha relación de trabajo de TSMC con un puñado de proveedores de gran volumen, particularmente Appe, las NTO pueden ser una cifra muy engañosa, ya que el primer año de un nuevo nodo en TSMC tiene una capacidad limitada y, como resultado, la mayor parte del mismo. La capacidad va a los socios prioritarios de TSMC. Mientras tanto, hubo muchas más grabaciones de N5 en su segundo año (en algunos casos N5P, por supuesto) y N2 promete tener 2,6 veces más NTO en su segundo año. Entonces, el nodo parece bastante prometedor. De hecho, según las diapositivas de TSMC (que lamentablemente no podemos volver a publicar), el N2 es más popular que el N3 en términos de NTO tanto en su primer como en su segundo año de existencia. En cuanto al segundo año de N2, en la segunda mitad de 2026 TSMC planea implementar su tecnología N2P, que promete más beneficios en términos de rendimiento y potencia. Se espera que N2P mejore la frecuencia entre un 15% y un 20%, reduzca el consumo de energía entre un 30% y un 40% y aumente la densidad del chip en más de 1,15 veces en comparación con N3E, beneficios significativos resultantes del cambio a los transistores de nanohojas GAA más nuevos. Finalmente, para aquellas empresas que necesitan lo mejor en rendimiento, potencia y densidad, TSMC está preparada para ofrecer el proceso A16 en 2026. Ese nodo también introducirá el suministro de energía eléctrica, lo que aumentará los costos, pero se espera que mejore significativamente el rendimiento. eficiencia y escalabilidad.

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